삼성전자가 반도체 슈퍼사이클에 대비해 생산기지에 광폭으로 투자하며 반도체 장비 자회사 세메스의 지난해 실적이 사상 최대치를 기록했다. 삼성전자가 올해 반도체·디스플레이 설비투자 규모를 더욱 늘리며 세메스가 연이어 실적 신기록을 경신할 수 있다는 기대가 나온다.

8일 세메스 연결감사보고서에 따르면, 지난해 매출 2조2143억원, 영업이익 2841억원을 거둬들였다. 매출은 전년(1조1338억원) 대비 95.3%, 영업이익은 무려 813.5% 급증했다. 매출은 2배로, 영업이익은 9배로 불어난 셈이다. 세메스는 2015년 국내 반도체 장비 기업 중 처음으로 연매출 1조원을 돌파했고 직전 반도체 슈퍼사이클 주기인 2017년에 2조원을 넘겼으나 그 뒤로 1조원대에 머물렀다.

세메스는 1993년 1월 삼성전자와 일본 다이니폰스크린(DNS)이 합작 설립한 한국디엔에스(KDNS)에서 출발한다. 당시 삼성전자는 첨단 반도체 장비 확보를 위해 안정적으로 삼성전자만을 위해 장비를 만들어 줄 자회사가 필요했다. KDNS는 반도체 세정 장비부터 고난도 반도체 공정(포토·식각) 장비, 디스플레이 장비까지 점차 기술 자립도를 높였고 삼성전자는 2005년 회사명을 세메스로 바꾸고 DNS 지분 전량을 사들여 현재 세메스 지분 91.54%를 보유 중이다.

세메스가 작년에 최대 실적을 올린 것은 삼성전자가 반도체 설비 확장을 위해 아낌없이 장비를 사들인 덕분이다. 삼성전자는 작년에 총 38조5000억원을 설비투자에 사용했다. 전년 대비 11조6000억원 증가한 액수이자 2017년 43조4000억원 이후 가장 많다. 사업별로는 반도체에 총 32조9000억원이 투입됐고, 디스플레이 설비에도 3조9000억원을 투자했다.

삼성전자는 지난해 평택캠퍼스 2라인(P2)에 D램과 낸드플래시 등 메모리 반도체와 시스템 반도체 수탁생산(파운드리)을 위한 장비 반입을 본격화했다. P2는 이르면 올 상반기에 본격 가동한다는 계획이다. 또 삼성전자는 중국 시안 낸드 2공장에도 약 80억달러(약 9조5000억원)를 들여 2단계 설비투자를 진행하고 있는데 올해 마무리할 것으로 기대된다.

세메스는 400~500개에 이르는 반도체 메인 공정 중 웨이퍼 표면의 화학·물리적 이물질을 제거하는 세정 공정용 장비를 주로 만든다. 특히 2017년 이 회사가 개발한 이산화탄소 슈퍼 크리스털 세정 건조 장비는 삼성전자가 첨단 10나노미터(㎚·1㎚는 10억분의 1m)급 D램 생산에 활용한다. 기존 세정 장비보다 우수해 SK하이닉스도 한때 이 장비 도입을 고려한 것으로 알려졌다. 세메스는 이 밖에 검사·패키징 등 메인 공정 이후 후공정 장비도 자체 개발해 공급한다. 삼성전자 주요 사업장의 물류 자동화 설비 또한 국산화에 성공해 최근 납품을 시작했다.

특히 세메스는 최근 들어 반도체에 회로 패턴을 만드는 핵심 공정인 식각용 장비도 자체 양산하기 시작했다. 식각 장비는 미국 램리서치, 일본 도쿄일렉트론(TEL) 같은 해외 기업이 지배하던 분야다. 한 반도체 업계 관계자는 "세메스가 삼성전자에 공급하는 장비는 식각 장비 중에서도 고난도인 건식 식각 장비"라며 "작년 세메스 매출액 중 4000억~5000억원을 식각 장비가 차지한 것으로 안다"고 전했다.

세메스는 올해부터 다시 본격화한 반도체 슈퍼사이클에 거는 기대가 크다. 올해 실적이 작년을 뛰어넘을 수 있다는 관측도 나온다. 삼성전자는 올해 작년보다 많은 35조원 이상을 반도체 설비투자에 쏟아부을 것으로 예상된다. 삼성전자는 평택 P2 라인의 조기 가동을 위해 설비 반입에 더욱 속도를 내고 있다. 또 30조원을 투자한 평택 P3 라인도 착공을 앞둔 상태다. 최근 강창진 세메스 대표이사는 매일경제와 인터뷰에서 "세메스를 2030년 매출 5조원에 이르는 세계 5대 반도체 장비 기업으로 도약시키겠다"고 포부를 밝히기도 했다.

[이종혁 기자]
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